INFORMATION 用語辞典

セラミックスと金属との複合材料。一般的なものに、元素周期律表IVA、VA、VIA族遷移金属の炭化物をニッケル、コバルトを主とする金属で結合した焼結硬質合金がある。

Si-Al-O-N系化合物の総称。Si,Nに対してAl,Oが置換型固溶したβ－サイアロンと、この置換型固溶及び結晶格子間に特定な金属原子が侵入型固溶したα－サイアロンとがある。特性は窒化けい素のもつ低熱膨張率、高強度に加え、耐食性も優れるが、靭性が低い。

粒体粒子及び多孔質焼結体中などの細孔径の分布割合。測定には水銀圧入法と気体吸着法などがある。

鉄の酸化物で酸化第一鉄(FeO）、四三酸化鉄（Fe3O4）、酸化第二鉄(Fe2O3）などがある。FeO：自発磁化をもつので磁性酸化鉄ともいう。逆スピネル型構造、比重5.16、融点は1538℃、Fe2O3：α型とγ型がある。前者はコランダム型構造をもつ赤色粉末。宝石研磨用、顔料などに用いられている。後者はマグヘマイトと呼ぶ。針状微粒子化して、単磁区で異方性をもたせて保磁力に富む磁器テープに利用する。

非金属元素として酸化を含む酸化物から成るセラミックス。酸化物セラミックスには、単純酸化物、複酸化物、けい酸塩、りん酸塩などの酸素酸塩がある。それぞれ種類も多く、広範囲の用途がある。

磁場中においた透明物体に光を入射したとき、物体からの反射光、透過光の振幅、位相、偏光状態が、元の入射光と異なる現象。この現象にはコットンムートン効果（フォークト効果）、ファラデ?効果、磁気カー効果の３種類がある。材料として、鉛ガラス、Y3Fe5O12などがあり、光アイソレーターなどに適用。

酸化鉄を主成分とする自発磁化をもつセラミックス。代表的なものに、軟磁性体のスピネル型、ガーネット型及び硬磁性体のマグネトプラムバイト型構造の化合物がある。

水分又は液状有機物添加量の多い原料粉体を成形するときの成形法。シート成形、テープ成形、鋳込み成形、泥漿鋳込み、押出し成形、射出成形などの方法がある。

圧電体の各振動モードでの共振周波数はそのモードでの音波の伝播方向の寸法に反比例する。この比例定数を周波数定数という。PZT系の材料では1500～2000Hz・mであり、応用部品の寸法設計に利用される。

1気圧の雰囲気化での焼結法。最も一般的な焼結方法であり、ファインセラミックスの製造に広く適用。

粉体系を融点以下又は少量の液相の存在する温度で加熱した場合に、構成粒子間に接合又は合体が起こり、ある程度の強さと特性をもつ体系になる現象。

電気的自発分極をもつために、外部電場を加えなくても、温度を変化させるだけでその表面に正負の電荷を発生する性質（焦電性）をもつセラミックス。セラミックスでは分極操作によって自発分極を持たせる必要がある。温度センサ、赤外線センサなどに利用され、代表的なものにはPZTがある。

二酸化珪素（SiO2）。結晶性物質として、石英、クリストバライト、トリジマナイトなどの多形が存在する。石英ガラスは、半導体製造や光ファイバとして利用されている。非晶質二酸化珪素の意味で用いられることもある。

シリカの網目状構造だけによって構成され網目修飾イオンのないガラス。純けい石の融解やSiCl4の高温気相分解で合成する。膨張率が小さく、急熱急冷に耐える。半導体分野で使用される高純度シリカガラスは、Al、B、Pなどの不純物の含有量が１ppb以下である。

二酸化ジルコニウム（ZrO2）。単斜晶系、正方晶系及び立方晶系の３種の多形がある。それぞれの転移温度は、約1100℃及び2370℃であり、融点は2680℃。正方晶系から単斜晶系へ相転移には約5％の体積膨張を伴い、焼成後の冷却中に亀裂が発生するため、一般には、CaO、MgO、Y2O3などを固溶させ、安定化ジルコニア（FSZ）又は部分安定化ジルコニア（PSZ）として用いる。

生体親和性があり、生体中で溶解、反応などの生体組織に積極的に働きかける性質のあるガラス。MgO、CaO、SiO2及びP2O5を主成分とする結晶化ガラスが生体活性のあるガラスとしてよく知られている。

被加工物の表面に付着している微粒子を除去して高いレベルの洗浄状態を得ること。精密電子部品の生産歩留まりを高めるのに不可欠な技術で、超音波洗浄と化学洗浄とがある。

液体中で移動する固体の滑り面の電位。ζ電位は電解質の種類と濃度に敏感であり、実質上コロイド溶液の安定性を左右している。セラミック原料の分散系の性質を支配する因子として重要であり、ζ電位の絶対値が大きい分散系は安定である。

赤外線波長帯（約0.75～1000マイクロメートル）の電磁波を多く放射するセラミックス。特に遠赤外線（波長2～30マイクロメートル）を放射するセラミックスは工業加熱に利用され、MnO2、Fe2O3、CuO、CoOなどを添加したコージェライトやチタン酸アルミニウム、炭化ケイ素などがある。

電気導電率がある値（約10-8Ω-1cm-1）以下のセラミックス。電力輸送用電線を固定する碍子やIC基板など幅広く利用されている。

ICやLSIなどの機能素子を搭載したり、これら相互の配線や入出力端子などを形成するためのセラミックの薄板。電気絶縁性、高熱伝導性、低誘電率、気密性、低熱膨張率、耐熱衝撃性などが要求される。厚膜用と薄膜用とがあり、アルミナ、ベリリア、ガラスセラミックス、ムライトなどのほか、窒化アルミニウムを用いる。

誘電体がセラミックスであるコンデンサ。BLコンデンサ、積層コンデンサなどがある。

印加電圧が小さいうちは電流の流れが小さく絶縁物に近いが、ある電圧以上で抵抗が急激に小さくなり良導体になる非直線性の抵抗体をバリスタと呼ぶ。セラミックスバリスタの代表例に酸化亜鉛系バリスタがある。電子回路素子の過電圧保護に利用。

セラミックスを直径十ミクロン又はそれ以下の繊維上に成形したもの。製造法には、融液の吹付けや引張り、粘性溶液の引張りと熱処理、ゾル・ゲル法などがある。断熱材、充填材、ろ過材、吸音材、複合材料用補強材などに利用。シリカ・アルミナ系ファイバが比較的多量に製造されている。

シリカ、ソーダ及び石灰を主成分とするガラス。ソーダ灰、石灰石及びけい砂を主原料として溶融法によって生産する。耐アルカリ性が低いという欠点があるが、加工しやすい安価であるので表面にシリカコートを行ってアルカリの溶出を防止したものは基板ガラスとしても使用される

金属アルコキシドなどを加水分解、重合させて、コロイド粒子が分散した状態のゾルを作り、このゾルから溶媒を蒸発させて流動性のない粒子分散状態のゾルを作り、このゾルから溶媒を蒸発させて流動性のない粒子分散状態のゲルを作り、これを乾燥、加熱してセラミックス粉末やガラスを合成する方法。微量成分の添加、均一混合などの特徴がある。